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東芝メモリシステムズ株式会社

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東芝メモリシステムズ株式会社

社員・元社員による会社の評価

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社員の口コミ・評判

東芝メモリシステムズ株式会社の口コミ・評判

スキルアップ、教育体制

投稿日:2017年11月18日
回答者:
  • 20代後半
  • 男性
  • 1年前
  • アナログIC設計

【良い点】教育の制度は比較的整っている気がします。自己啓発として、英会話に通った場合に、補助金の出る制度もあります。セミナーにも参加しやすい環境にあるため...

  • 仕事のやりがい(0件)
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みんなの就活速報

会員番号:361298さん / 理系

1次面接通過した学生の就活速報

投稿日:2018年7月29日
面接官/学生
面接官 6人学生 1人
連絡方法
メール3日以内
雰囲気
雑談に近い
質問内容
その他なぜこの会社か?なぜこの業界か?学生時代のエピソード将来やりたいこと自己紹介(自己PR)

研究についてかなり聞かれた

会員番号:352218さん / 理系

1次面接通過した学生の就活速報

投稿日:2018年5月25日
面接官/学生
面接官 2人学生 1人
連絡方法
メール3日以内
雰囲気
和やか
質問内容
その他なぜこの会社か?なぜこの業界か?学生時代のエピソード将来やりたいこと

特に難しい問題ではない

本選考情報(ES・体験記)

  • エントリーシート
  • 本選考体験記
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東芝メモリシステムズ株式会社

技術系
通過
Q. 研究内容
A. パソコンや携帯電話において重要な半導体産業は、集積回路の素子サイズを微細化することで、高性能化を成し遂げてきました。しかし近年、加工技術の限界やリーク電流の増加などの問題から、微細化による性能向上に限界が来ています。そこで新たな性能向上手法として、材料に従来のシリコンと比べて移動度つまり電流の流れる速度が速く、高速駆動が期待されているゲルマニウムを使用したデバイスや、材料の性質を変化させる「歪み」を導入したデバイスの開発が進められています。ゲルマニウムはシリコンと同族元素であるため、従来のシリコンと同じ技術を使うことができます。特に電子の移動によって電流を流すn型ゲルマニウムMOS構造を作製するには、ゲルマニウムと金属の間に障壁を作り電流が流れなくなる、フェルミレベルピニングというものが問題となっています。そこで私は電極と接するソースドレインにシリコンゲルマニウムを用いてシリコンゲルマニウムと金属の間のフェルミレベルピニングの影響について現在研究を進めています。最終的な目標はフェルミレベルピニングによる電流が流れないショットキー接触を解決し、さらにソースドレインにシリコンゲルマニウムを用いることで電流の流れるチャネル部分のゲルマニウムに歪みを加えることでさらなる移動度の向上を実現することを目標として現在ゲルマニウム上へのシリコンゲルマニウム膜の成長条件の最適化を結晶性、平坦性、歪みの評価と電流電圧特性の測定を通して研究を進めています。

会社情報

基本データ
会社名 東芝メモリシステムズ株式会社
フリガナ トウシバメモリシステムズ
URL http://www.toshiba-tmes.co.jp/
本社所在地 〒247-0006 神奈川県横浜市栄区笠間2丁目5-1 STEビル
電話番号 045-890-2750
FAX 045-890-2892