【実験装置の達人、英語論文も得意】【23卒】東京エレクトロンテクノロジーソリューションズの総合職 プロセスエンジニアの1次面接詳細 体験記No.22889（非公開/男性）（2022/4/19公開）

開始十分前に指定URLに飛び、面談を受ける。

他の学生に比べて多くの実験装置を扱っているのでその経験は評価された。又英語論文の執筆経験についても評価されたと思う。入社後やりたいことの具体性についても評価された。

面接官は二人とも温厚そうな方で、自分の話に適宜うなずいていただき、非常に話しやすい雰囲気だった。ただ知人が受けた時は少し圧迫だったらしいので人によるのだと思う。

豊富な実験装置の使用経験、英語力、成長意欲を誉められた。
悪かったところを聞いたが、ないと言われた。

なし

入社後、どのような業務に携わりたいか。

私はプロセスエンジニアとして複雑化する半導体のプロセス開発に対して材料の特性理解により実験の試行回数を削減する業務に携わり、長期的には誰もが効率的にプロセス開発を行えるようなプラットフォームの開発を行いたいと考えています。以前、御社の説明会でプロセス開発における課題として開発が力仕事気味になってしまっているという事をお聞きしました。今後多様な半導体デバイスのプロセス開発に対するニーズが高まる一方で、そのような課題が残っていると、新規のプロセス開発に限界が来るのではないかと考えています。私はプロセス開発に対する業務の効率化を目指し、様々な新規材料に対してよりスピーディーに開発ができればと思います。

研究内容について教えてください。

私はAI技術に応用できる、○○と△△を組み合わせたトランジスタを開発しています。AI技術は非常に便利なんですが、電力消費も大きいので、技術の拡大とともに持続可能な社会の実現が困難になる事が懸念されています。そこでAI技術専用のハードウェアの開発が注目されています。AIハードウェアは様々な材料で研究が行われておりその中で○○を用いた研究があります。○○を用いたAIハードウェアはその××と呼ばれる性質が重要な役割になります。そこで私はその重要な××という性質を制御できるトランジスタを開発する事でより高性能なAIハードウェアの開発に繋がると考え本研究を遂行しています。
以下は深堀
・その研究であなたはどのような装置を使ったか？それはチームで行っている研究なのか？
私はデバイス作製からその評価まですべてを一人で行いました。半導体成膜の為にスパッタ装置やCVD装置などを使い、電極パターン形成の為にCADやフォトリソグラフィー技術を使用しています。デバイス評価の為にSEM装置やXRD装置、電気化学評価装置など２０種類以上の装置を扱いました。