【和やかな核心】【20卒】サムコの技術職の最終面接詳細 体験記No.7342（奈良先端科学技術大学院大学大学院/男性）（2019/6/24公開）

面接の序盤で，社長の方がを言って和ませてくれたが「正直な話，勉強は好きかな」と質問があり，はいと答えた後「不真面目な学生はうちに向いてない」と言われたり，和やかな雰囲気の中で，核心に迫ることを聞いてくるので気を付けた方がいい．

面接官との距離が遠く威圧感を感じたが，面接開始後，社長の方が冗談で場を和ませてくれた．そのあとはありのままの自分を出すことができた．

GaNってなに，バンドギャップとは，化合物半導体との違いは？

ガリウムと窒素の化合物で，半導体材料として前から注目されていて，近年着々と実用化が進んでいる材料です．現在主流のであるシリコンのバンドギャップ，1.12eVと比較して，GaNのバンドギャップが3.4eV程度と大きいため，高温環境でも安定した動作が可能です．バンドギャップは半導体や絶縁体の議論をする上で，基本となる理論の一つで，電子が存在出来ない電子のエネルギーの幅の広さを示してします．半導体，および絶縁体のこの性質のお陰で全ての電子製品は成り立っています．材料中には，材料中の電子がさまざまなエネルギーを持つことができます．エネルギーは低いところから安定で，電子が詰まった層を価電子帯と呼びます．また，電子が存在できるけど，空になっている帯域を導電帯といいます．バンドギャップとはこの価電子帯と導電帯の差ということもできます．このバンドギャップが狭いと，高温環境下で熱励起によって，価電子帯の電子が常に導電帯に遷移することになるので，バンドギャップが高い化合物半導体はシリコン半導体よりも優れているということが説明できます．

うちの装置は使ったことはありますか，また工場見学の感想は？

はい，私の研究室は半導体プロセスに関わる研究室なので，UV/O3クリーナー，プラズマCVD，ICPプラズマエッチング装置にお世話なっています．特に便利だと感じているものがプラズマエッチング装置です．エッチングには薬液にサンプルをつけてエッチングを行うウェット方式と，ガスを用いてエッチングを行うドライ方式がありますが，繊細なパターンをエッチングする場合はドライエッチングが適してします．貴社のプラズマエッチング装置を利用すことで，デバイスの構造に対する不安が払拭出来ていると感じます．
また，工場見学の感想ですが，見学した時に社員の方々が迷うことなく，力を合わせて次々に装置を組み立てていく風景を目の当たりにして，御社は社員のみんなのまとまりのあるいい企業だと感じました．