日本ゼオンの選考フロー・本選考対策・早期選考情報・内定者の傾向と対策
日本ゼオンの選考フローや選考スケジュール、各選考の時期、早期選考の情報、通過率など選考対策に役立つ情報を掲載。志望動機、ESの頻出質問、合格した先輩の面接での質問と回答、内定者のアドバイス、入社を決めた理由の一部も確認できます。ぜひ参考にして、選考に備えましょう。
日本ゼオンの 27卒・28卒向け 最新の就活速報
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2026年9月15日 ES落選・連絡なし(サイレント)の学生の就活速報
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2026年9月9日 1次面接通過した学生の就活速報
日本ゼオンの 本選考の選考フロー・スケジュール
選考フローサマリ AI要約
日本ゼオンの本選考は、書類選考と適... 続きを読む(全111文字)
注意すべき選考ステップ AI要約
選考スケジュールは日程がピンポイン... 続きを読む(全154文字)
最近の選考フロー
- インターン
- エントリーシート
- WEBテスト
- 1次面接
- 2次面接
- 最終面接
全1件の投稿
- エントリーシート
- 筆記試験
- 1次面接
- 2次面接
- 最終面接
全1件の投稿
- エントリーシート
- WEBテスト
- 1次面接
- 2次面接
- 最終面接
全1件の投稿
- インターン
- エントリーシート
- WEBテスト
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- 1次面接
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- エントリーシート
- WEBテスト
- 1次面接
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- WEBテスト
- 1次面接
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- WEBテスト
- 1次面接
- 2次面接
- 最終面接
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選考・採用スケジュール
- 26卒
- 27卒
27卒の学生からは、各選考ステップで以下の時期を中心に報告が寄せられています。
- ES
- 2026年2月
- WEBテスト
- 2026年2月
- 1次面接
- 2026年3月
- 2次面接
- 2026年2月、4月
- 3次面接以降
- 2026年3月、5月
- 内定
- 2026年3月、5月
日本ゼオンの 選考難易度と採用倍率
選考難易度
日本ゼオンは5点満点中4.7点で、選考難易度は非常に高いと言えます。また、就活会議に登録されている41,831件のメーカー・製造業業界の企業の平均に比べると、0.8点高いです。
選考難易度は、企業の選考を通過する難しさを示した指標です。就活会議の会員が登録したステータスをもとに算出しています。この情報は、必ずしも合否を決定づけるものではありません。就職活動における参考のひとつとして、ぜひ活用してください。
採用倍率
就活会議に登録されている41,831件のメーカー・製造業業界の企業の平均は8.3倍のため、採用倍率は高いと言えます。
採用倍率は就活会議の会員が登録したステータスをもとに算出しており、実際の採用倍率とは異なります。就活会議サイト内での相対値として参考にしてください。また、この情報は、必ずしも合否を決定づけるものではありません。就職活動における参考のひとつとして、ぜひ活用してください。※より適切な情報となるよう、データ集計方法を調整いたしました。(2025年4月14日更新)
日本ゼオンの 早期選考の情報
AI要約
早期選考があります。秋頃に開催され... 続きを読む(全61文字)
インターンからの優遇
インターンへの参加が本選考に有利になると思いましたか?
- はい
- いいえ
日本ゼオンのインターンが本選考に有利だと答えた人は、
業界平均より7%多いです
早期選考のスケジュール
データがありません
日本ゼオンの 本選考対策
志望動機
日本ゼオンの内定者の志望動機の共通点 AI要約
共通点として、化学・素材の力で社会... 続きを読む(全191文字)
技術系総合職
24卒 / 学校名非公開 / 女性
- Q. 日本ゼオンを志望する理由を教えてください。
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A. 貴社を志望する理由は二つあります。 一つ目は、貴社の材料開発の力をもとで、「未来の当たり前」を創造したいと考えます。「挑戦心」と「独自性」を重視し、変化する社会のニーズに合う技術の応用・開拓を続ける貴社であれば実現できると考えました。 二つ目は、大学で学んだシミュレーションの知識を活かして、貴社でしか作ることのできない革新的な開発に挑戦したいためです。 材料開発はモノづくりの根幹であるため、高付加価値の製品を生み出し、社会課題解決に取り組むことで、大きな使命感を覚えることができると考えています。
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エントリーシート
日本ゼオンのESでよくある質問 AI要約
ゼミ・研究室にて取り組んでいるテー... 続きを読む(全152文字)
技術系総合職 研究開発
27卒 / 学校名非公開 / 性別非公開
- Q. ゼミ・研究室にて取り組んでいるテーマについて簡潔にご説明ください。 所属していない方は、特に力を入れて勉強していることについてご説明ください。
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事務系総合職
24卒 / 学校名非公開 / 女性
- Q. ゼミ・研究室にて取り組んでいるテーマについて簡潔にご説明ください。所属していない方は、特に力を入れて勉強されていることについてご説明ください
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A. 私は●●学部に所属し、学生時代を通して英語学習とゼミの活動に力を入れてきました。1,2年次はコミュニケーションツールとしての英語習得を目指し、授業を通して英語の4技能の学習に取り組みました。3年次からは現代社会における文化研究をテーマとするゼミに所属しています。ゼミでは、グローバル化の進む現代社会を文化の面から分析することを目的としています。具体的には越境移住、消費文化、メディア文化などのテーマを扱っており、学生同士のディスカッションを通して理解を深めています。自分の意見を述べ、異なる意見にも触れることで思考の幅が広がり、多角的な視点を身につけることができました。ゼミを通して養った視点を生かし、4年次では●●をテーマに研究を行い、卒業論文の執筆を計画しています。
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技術系総合職 研究開発
24卒 / 東北大学大学院 / 男性
- Q. ゼミ・研究室にて取り組んでいるテーマについて簡潔にご説明ください。所属していない方は、特に力を入れて勉強されていることについてご説明ください。
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A. 私は、〇〇化合物を用いて、有機分子に窒素官能基を導入するアミノ化剤の開発について研究しています。窒素官能基は多くの医薬品や天然物に含まれるため、窒素官能基導入法の開発は有機合成において非常に重要です。その中でも近年、〇〇を用いた窒素官能基導入剤が注目を集めています。これに対して私は、これらの化合物と構造は似ていますが、反応性が真逆なアミノ化剤の開発に成功しました。本アミノ化剤は、これまでに知られていないような反応性を持ち、従来の方法では導入できないような窒素官能基を導入できる可能性があります。そのため、新規医薬品の開発や、既存医薬品の簡便な合成法の確立に利用できると考えております。また、本反応は、窒素官能基だけでなく、多様な構造に変換できる〇〇部位も有機分子に導入されるため、実用性があると感じています。
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面接
日本ゼオンの本選考面接の内容、評価ポイント AI要約
日本ゼオンの本選考面接は、事務系総... 続きを読む(全113文字)
技術系総合職
24卒 / 学校名非公開 / 女性
- Q. 他社との違いを教えてください。
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A. 「挑戦心」と「独自性」を重視し、変化する社会のニーズに合う技術の応用・開拓を続ける貴社であれば実現できると考えました。 私の就活の軸として、「未来の当たり前」を創造したいと考えています。御社は付加価値を提供し、新しいことへの挑戦を進めている企業であり、サークルにおいて不可欠な存在を目指した経験から、そこに向けて取り組むことによって大きく成長し、達成後はやりがいを感じることができると考えます。 これらを達成することで御社の「利益」と「社会貢献」を両立させます。
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技術系総合職
24卒 / 学校名非公開 / 女性
- Q. 他にどのような会社をみていますか
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A. 〇〇部門での募集のある企業を受けています。 その理由は、シミュレーションを用いて新材料の開発・提案を行い、社会課題解決に挑戦したいためです。開発においてシミュレーションや解析は、効率的な開発を行う上で今後さらに重要になると考えます。 そこで、画期的なシミュレーションやシステムを構築し、科学の発展に寄与したいと考えます。 どのようなキャリアプランを考えていますか。 将来的に開発事業の中心となる立場になりたいと考えています。そのために、技術者として経験を積みながら、必要な知識を習得し、顧客の要望に応えられる能力を身に付けます。
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日本ゼオンの 内定者のアドバイス
求められるスキル・能力、人物像 AI要約
研究における論理的な検証姿勢や、周... 続きを読む(全148文字)
対策として必ずやるべきこと AI要約
ホームページやIR情報を読み込み、... 続きを読む(全164文字)
入社を決めた理由・迷った企業
入社を迷った企業
日本ゼオンに入社を決めた学生がほかに入社を迷った企業の一例は下記です。 続きを読む(全22文字)
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日本ゼオンの 選考対策
日本ゼオンの 会社情報
| 会社名 | 日本ゼオン株式会社 |
|---|---|
| フリガナ | ニッポンゼオン |
| 設立日 | 1950年4月 |
| 資本金 | 242億1100万円 |
| 従業員数 | 4,425人 |
| 売上高 | 4119億6600万円 |
| 決算月 | 3月 |
| 代表者 | 豊嶋 哲也 |
| 本社所在地 | 〒100-0005 東京都千代田区丸の内1丁目6番2号 |
| 平均年齢 | 39.0歳 |
| 平均給与 | 759万円 |
| 電話番号 | 03-3216-1772 |
| URL | https://www.zeon.co.jp/ |