【研究力をアピール】【20卒】日本航空電子工業の技術職の最終面接詳細 体験記No.6771（東京農工大学大学院/男性）（2019/7/26公開）

研究について深堀されたが、しっかりと受け答えすることができたので、研究活動をしっかりしていることがアピールできたことが評価されたと考えています。

全体的に和やかな面接で、たまに笑いも起きていた。研究に関することなど学問に関する質問時は真面目な雰囲気であった。

学生時代勉強するときに努力したこと、クラブ活動、アルバイト、志望職種について、2分程度にまとめて話してください。

私が学生時代勉強する際に努力したことは、疑問点や課題が出た際には、なるべく自分の力での解決を目指し、人に聞くときには自分でしっかり考えてから自分の考えをまとめ、話すようにしたことです。高校時代のクラブ活動はサッカー部に所属しており、毎週行っていたランニングを通じて、粘り強さが鍛えられたと考えています。アルバイトは大学1年の頃から塾講師のアルバイトをしており、様々な生徒に教えることを通じて、各々に合う接し方や教え方があるということを学べ、対応力を養える貴重な場となりました。また、授業を行うときには、ただ解説をするのではなく、質問をしながら進めていき、常に生徒自身に考えさせるように心がけました。志望している職種は研究職です。研究職は、製品の性能や品質を向上させる鍵を握っていると考えています。付加価値を創出すべく研究開発に携わり、あらゆる技術課題の解決に取り組むことを通じて、安全で快適な社会の実現に貢献したいと思い、志望しました。

研究内容についてわかりやすく教えてください。

次世代メモリとして注目されているReRAMは、金属酸化物を電極で挟んだサンドイッチ構造を有し、金属酸化物膜の抵抗変化をメモリとして利用しています。ポーラスアルミナは、高い規則性を有するそのナノ構造のために、金属酸化物膜として適した物質と考えられます。また、ポーラスアルミナには透明であるという性質もあります。私はその性質に着目し、ポーラスアルミナ上に透明導電膜として注目されているZnO膜を作製することで、透明なReRAMを作製することを目的としました。しかし、先行研究から、ポーラスアルミナに上にZnOのめっきを行うと低導電性に問題があることがわかりました。そこで、ポーラスアルミナの表面上に、薄く亜鉛をめっきし、その上からZnOをめっきすることで、ZnO/Zn構造を作製することにしました。その後、アニール処理を行うことで、Zn原子を拡散させ、比抵抗値の減少を図り、透明電極ポーラスアルミナReRAMの作製を目指しています。