【技術力と貢献心が光る】【20卒】日本航空電子工業の技術職の本選考体験記 No.6771（東京農工大学大学院/男性）（2019/7/26公開）

何度も問題を解き、時間内に解き終わることができるよう勉強した。

言語、非言語、性格診断

今まで学んだ内容の復習を行い、苦手な箇所の確認を行った。しかし、1次面接と同じ日だったので、そこまで対策はしなかった。

適性検査、物理の基本問題（高校レベル）

グループ面接だったため、時間を使いすぎないように聞かれたことに関して、簡潔にまとめてから答えるように心がけたことが評価されたと思います。

全体的に和やかな雰囲気の面接であった。時間も短かったため、短時間で言いたいことをまとめる能力が必要だと感じた。

学生時代に頑張ったことを教えてください。

私が、学生時代に力を入れて活動したことは塾講師のアルバイトです。大勢の子どもたちを相手にする仕事でしたが、ひとりひとりに個性があって、物事を理解するまでのスピードにも違いがあり、興味を持つことが違うこともあり、各々に合う接し方や教え方というものがあるということを学べる貴重な場となりました。時には、授業に集中しない子どももいて、授業が全く進まないこともありましたが、その時は無理やり勉強させるのではなく相手が興味を持っている話題から入り、徐々に勉強に意識が向くように工夫をすることで、授業に集中できるように対策を行いました。それに加えて、授業の様子を報告するために、月に一回保護者の方に電話をしました。時には、厳しいお言葉を頂くこともありましたが、私よりも年上で、社会人として経験も積んでこられた保護者の方と、真剣に話すことは非常に濃い経験となりました。

希望事業、入社してやりたい仕事は何か。

私が志望している事業部は、コネクタ事業部です。コネクタはコンシューマー製品からインフラ機器まで幅広い電子機器に用いられているため、広い範囲で社会貢献できる製品であると考えています。特に、自動車製品の不良は命にかかわるため、自動車用コネクタには厳しい品質や性能を要求されると思います。自動車製品に携わっていくことを通じて、このような自動車特有の環境に対応するために高い技術力を身に着けることができると考えています。入社後は、研究職に携わりたいと考えています。研究開発に責任感を持って携わり、新たな技術を創造することを通じて、製品の性能・品質の向上に貢献し、人々がより豊かで快適な暮らしができるために貢献したいと考えています。

研究について深堀されたが、しっかりと受け答えすることができたので、研究活動をしっかりしていることがアピールできたことが評価されたと考えています。

全体的に和やかな面接で、たまに笑いも起きていた。研究に関することなど学問に関する質問時は真面目な雰囲気であった。

学生時代勉強するときに努力したこと、クラブ活動、アルバイト、志望職種について、2分程度にまとめて話してください。

私が学生時代勉強する際に努力したことは、疑問点や課題が出た際には、なるべく自分の力での解決を目指し、人に聞くときには自分でしっかり考えてから自分の考えをまとめ、話すようにしたことです。高校時代のクラブ活動はサッカー部に所属しており、毎週行っていたランニングを通じて、粘り強さが鍛えられたと考えています。アルバイトは大学1年の頃から塾講師のアルバイトをしており、様々な生徒に教えることを通じて、各々に合う接し方や教え方があるということを学べ、対応力を養える貴重な場となりました。また、授業を行うときには、ただ解説をするのではなく、質問をしながら進めていき、常に生徒自身に考えさせるように心がけました。志望している職種は研究職です。研究職は、製品の性能や品質を向上させる鍵を握っていると考えています。付加価値を創出すべく研究開発に携わり、あらゆる技術課題の解決に取り組むことを通じて、安全で快適な社会の実現に貢献したいと思い、志望しました。

研究内容についてわかりやすく教えてください。

次世代メモリとして注目されているReRAMは、金属酸化物を電極で挟んだサンドイッチ構造を有し、金属酸化物膜の抵抗変化をメモリとして利用しています。ポーラスアルミナは、高い規則性を有するそのナノ構造のために、金属酸化物膜として適した物質と考えられます。また、ポーラスアルミナには透明であるという性質もあります。私はその性質に着目し、ポーラスアルミナ上に透明導電膜として注目されているZnO膜を作製することで、透明なReRAMを作製することを目的としました。しかし、先行研究から、ポーラスアルミナに上にZnOのめっきを行うと低導電性に問題があることがわかりました。そこで、ポーラスアルミナの表面上に、薄く亜鉛をめっきし、その上からZnOをめっきすることで、ZnO/Zn構造を作製することにしました。その後、アニール処理を行うことで、Zn原子を拡散させ、比抵抗値の減少を図り、透明電極ポーラスアルミナReRAMの作製を目指しています。