
23卒 本選考ES
技術職
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Q.
東京エレクトロンを志望する理由(入社したら、どんな仕事で、どんな風に活躍したいかも含めて)
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A.
プロセスエンジニアとしてお客様と密にコミュニケーションを取り、最適なプロセスを提案したいと考え、志望致しました。私は研究活動において、気圧や放電パワーなどの放電条件を細かく調整し、安定的なプラズマを生成することに楽しさを見出しているからです。このように、「最適な条件を探索する」工程が好きだと感じます。また、チームでのアプリ開発経験を通じ、チームで課題に対処したり新たな挑戦をしたりすることにやりがいを見出しました。したがって、お客様の課題特定の助力となり、きめ細かに連携してプロセス開発に取り組みたいです。IoTやAIの活用に向けてより高機能な半導体の量産が求められている現代において、求められる半導体の機能に応じた半導体製造装置の開発は必須であると考えています。そのため、入社後は自由な開発環境のもと新規プロセス実現に向けて挑戦を続け、お客様に対し世界に一つだけの装置を提供したいです。 続きを読む
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Q.
力を注いだ科目または研究テーマの概要(全角400文字以内)
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A.
反応性ガスである〇〇は様々なプラズマプロセスに応用されるため、そのパラメータ診断は重要です。また、〇〇〇〇は〇〇〇〇の一種であり、元素分析やイオン源、半導体エッチング、薄膜生成などに応用されています。エッチングにおいては、半導体ウエハを一様に処理する必要があるため、大面積かつガス温度が空間的に均一なプラズマが求められます。プラズマ大面積化する方法として、表面波の励起があります。研究室の先輩の研究では〇〇〇〇をプラズマに照射し、〇〇〇〇〇〇を生成していました。しかし、私はより容易に〇〇を励起できる周波数帯である〇〇電源を用い、誘導電界により〇〇を生成します。生成したプラズマに対し、複数箇所で〇〇計測と〇〇〇〇計測を行い、パラメータの面内分布を調べます。これにより、エッチングプロセスにおけるプラズマのふるまいに対する理解を深めることを目的としています。 続きを読む
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Q.
自己PR(全半角400文字以内)
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A.
周囲の状況を素早く把握し、的確な判断によりチームに貢献します。昨年、友人3人とのiOSアプリ開発にチームのサブリーダーとして参加しました。その中で、開発の進め方におけるメンバー間の意見の食い違いや情報共有不足により作業が中断してしまうことがありました。意見の食い違いの原因として、メンバーがリーダーの意思決定に納得していないからだと考えました。そこで、私は定例会議の開催を提案し、お互い気軽に意見交換できる場を作りました。また、互いの進捗状況や困っている点をSNSで共有し、課題解決に向けて全員で協力できる体制を整えました。意思疎通が活発に行われたことで納得感を持って作業に集中でき、チームの結束も深まりました。これらの取り組みの結果、アプリをリリース直前まで仕上げることができました。貴社においてプロセスエンジニアの業務でこの強みを発揮し、お客様の課題に対し最適な提案・実行につなげていきます。 続きを読む