【真面目さが活躍を導く】【24卒】キオクシアの技術系総合職 JD1（製品・デバイス技術開発）の最終面接（オンライン面接）詳細 体験記No.43964（非公開/女性）（2023/6/21公開）

ログイン後、待機室で待機した。終了後はログアウトした。

研究に真面目にとりくんできた姿勢から自分の真面目さをアピールし、社会人になっても活躍できる人材であることを示したことが評価されたと考える。

温厚な雰囲気の方で、こちらが緊張しないよう配慮してくださった。同じくらいの年齢の娘がいるから一人暮らしの雰囲気も聞きたいということで雑談しながら緊張をほぐして下さった。

なし

特になし

研究室でこれだけは先輩に負けないといった技術はあるか？

はい、私はMALDI-TOF-MSに関しての技術は研究室で一番を自負しています。この技術は先輩何人かから教えていただいたものに自分で改良を重ね、さらに測定回数がとても多かったこともあり、とても良い精度で測定できるようになりました。その結果、今では先輩にも測定のための仕込みや機械の扱い方についてアドバイスを求められるようになりました。
この機械での測定への関しては、後輩への指導が博士の先輩ではなく私に一任されるようになりました。

知的財産にも興味を持っているとのことだが弊社でそのような分野で活躍されるつもりはあるか？

はい、私はものつくりを企業で行う際には知的財産の運用方法が要になるのではないかと考えております。何を企業秘密として何を特許として申請するかの線引きや、研究開発職と弁理士の人のつなぎとして活躍したいと考えます。もし御社とご縁がございましたら是非知的財産の分野でも働きたいです。
もちろん化学を生かしたものつくりとしての研究開発への関心もございます。まずは研究開発職で御社の製品を学び、十分に知識を身に付けてからいずれは知的財産分野で活躍をしたいと考えています。