東京応化工業の技術系の志望動機詳細（23卒/男性）（2022/7/25公開）【未来を創る化学の力】体験記No.35837

選考はオンラインでの実施でした。

私は御社の高い技術力と会社の雰囲気に魅力を感じ志望しました。半導体の製造において性能や品質を大きく左右する陰の立役者とも呼べるフォトレジストの分野で世界でも非常に高いシェア率を持っている。またフォトレジストの中でも超微細加工であるE U V用のフォトレジストでは世界シェア４６パーセントと他の企業よりフォトレジストの分野で最先端の知識やノウハウを持っている。そしてそれを支えるのが会社としての雰囲気や社風だと考えています。会社としては研究開発に非常に力を入れており、今現在の技術や製品に満足せず、最先端の技術への追求を欠かさない挑戦的思考があると感じました。また、働く社員の方々には自由闊達の中でチームとして動くだけでなく個人としてもその人自信が考え、行動、挑戦していくような雰囲気に魅力を感じています。こうした点で私の夢を叶えるために、そして私の挑戦心と努力が最大限活かせるのが御社だいう風に感じたため志望しました。そして付け加えて離させていただけるのなら御社は化学の力で未来の要望に応えるのだという熱意に非常に感銘を受けています。私自身が化学を進むきっかけとなったのが高校の先生に言われた一言、化学には無限の可能性がある。この言葉を鮮明に思い出す機会となり、私自身もこの化学という力から世界No.１シェアに着眼し、将来に必要となる次の世代のNo.１を御社の元で作り上げたいと考えています