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【革新的半導体技術で未来を拓く】【22卒】 富士フイルム 材料開発の通過ES(エントリーシート) No.45523(大阪大学大学院/男性)(2021/5/21公開)

富士フイルム株式会社の本選考における、エントリーシートで出題された設問とそれに対する先輩の実際の回答を公開しています。ぜひ、卒年や職種による設問の違いや傾向を確認して、先輩の回答を選考対策に役立ててください。

※ 本ページに表示されるタイトルおよびHTML上のメタ情報には、生成AIが作成した文章が含まれます。

※ 参考になったボタンは、1度押すと変更できません。

公開日:2021年5月21日

22卒 本選考ES

材料開発
22卒 | 大阪大学大学院 | 男性

Q.
研究内容(全角300文字以内)

A.
窒化ガリウム(GaN)半導体結晶の気相成長が私の研究内容です。私の研究が実用化されると、今よりも格段に小型化・低消費電力・高速動作なデバイスが世間に普及し、電気自動車や通信機器の分野が進歩します。実用化に向けた課題として、現在のGaN基板は高価かつ品質が十分でないことが挙げられ、高品質大型結晶の作製技術の確立が要求されます。 私の研究室の独自技術である○○法というGaN気相成長法は排気系を閉塞する固体副生成物が発生しないので、長時間成長に有利な手法です。この手法で高品質大型GaN結晶を作製し、スライスし量産化することでGaN基板の低コスト化を実現することが私の研究の最終目標となります。 続きを読む

Q.
院生の方:貴方の研究活動は、貴方の研究領域にどのような進歩をもたらしましたか?またその進歩のために、貴方はどのような形で貢献しましたか?学部生の方:科学技術分野において、貴方がこれまでに力を入れて学んだことは何ですか?また、そのモチベーションとなったのはどんなことでしたか?(全角200文字以内)

A.
私が用いている結晶成長法では初となる、100um/hを超える高速成長での結晶の大型化に成功しました。従来大型化するための成長速度は40um/h程度であり、それ以上の高速成長時には多結晶の生成が結晶の大型化を阻害するという問題がありました。そこで私は成長温度や新たな添加ガス種に着眼することで高速成長時の多結晶抑制に初めて成功し、従来の倍以上の速度で結晶の大型化を行うことが可能となりました。 続きを読む

Q.
貴方が過去、努力して達成したと思うことは何ですか?(研究についてでも、それ以外でも構いません。貴方の取った行動が判るようにお書きください。)(全角300文字以内)

A.
私は自身の研究テーマの達成に向け最も努力しました。私は研究室配属時に「学部生の間に国内会議への登壇や論文投稿を達成する」という高い目標を掲げました。しかし研究開始当初は専門知識が十分でなく、1年程の短い期間で成果を出すのは難しいと懸念されていました。そこで私は先輩や先生、共同研究者へ日々積極的に質問を行うことで飛躍的に知識を吸収しました。周囲の意見に真摯に向き合い、アイデアを柔軟に取り入れることで自身の研究目標を実現し、学部生の間に3回の学会発表と学術誌への論文執筆を経験しました。この経験を通して、私は持ち前のチャレンジ精神や協調性、やりきる力を磨くことができました。 続きを読む

Q.
貴方が今までに直面した一番大きな困難は何ですか?その困難をどのように乗り越え、その経験は貴方の現在にどのように影響していますか?(全角300文字以内)

A.
先述のように、私が用いている結晶成長法では高速成長時に発生する多結晶が長年の問題であり、その抑制に苦心してきました。私は多結晶抑制に向け、日々先生と議論し過去の研究データをまとめることで、どの要素が効いているかを徹底的に調べました。その中で私はH2Oに着眼しました。従来チーム内にはH2Oは低減すべきという常識がありましたが、私はあるメカニズム想定を立て、高温環境下で逆にH2Oを添加するという過去にない方法を提案しました。その結果、初めて高速成長時の多結晶抑制に成功しました。この経験から、既存のデータを有効活用しつつも常識を疑い、新たな効果を創出するアイデア力の重要さを学びました。 続きを読む

Q.
応募理由をご記入ください。(全角200文字以内)

A.
フイルムというコア技術をもとに新たな分野を開拓し、成長を続ける貴社の文化に魅力を感じました。コア技術を別分野で応用するという視野の広い・挑戦の文化が根付いた貴社は、過去にない画期的な製品を生み出す可能性に満ちていると考えます。製品・技術開発を通じて技術者の立場から社会貢献したいという私の夢を叶えるためにも、ぜひ貴社の一員としてイノベーションの創出に挑戦したく思います。 続きを読む

Q.
希望する仕事についてご記入ください。(全角200文字以内)

A.
材料系分野を志望します。完成品を川下とするなら、材料は川上に位置します。私は半導体結晶成長という川上の研究を通じ、材料の特性が完成品に与える影響力を実感してきました。多様な技術を持ち、それらの融合により新たな製品を生み出す貴社での材料開発に大きな魅力を感じております。私の半導体関連の知識やチャレンジ精神といった素養を活用し、既存の方法に囚われない広い視野で研究開発に貢献したく思います。 続きを読む

Q.
あなたの長所をご記入ください。(全角100文字以内)

A.
私の長所は計画力に優れている点です。研究活動では限られた実験時間を有効活用するべく1週間から数か月単位の実験計画を立てています。目標から逆算して計画を立て、最後までやり抜けることが私の強みです。 続きを読む

Q.
あなたの短所をご記入ください。(全角100文字以内)

A.
私は手応えのある課題に取り組むことを好んでいるものの、高い目標を掲げるあまりに達成まで至らずに終わってしまうことがあります。着実なステップを踏んで目標へと進むことを意識しています。 続きを読む
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22卒 | 日本大学 | 男性
通過

Q.
自身の強みのエピソードまたは学生時代に頑張ったこと (文字数自分で決める)

A.
私は〇○○〇のアルバイトでクレームを削減しました。私の働いている店舗は、関東で売上1位を目指していることから回転率が高い反面、従業員の付属品入れ忘れのクレームが多発していました。私はお客様により良いサービスを提供し気持ちよく当店を利用していただきたいと思い、この課題を解決するため近隣店舗の視察を行いました。そこから、チェックリストの作成でミスを削減できたこと、また付属品の置く位置を統一することで入れ忘れを防止できたことを伺いました。そのため、店長や他の従業員に相談し、自店舗でも取り入れる事を提案しました。当初はミスが減るはずがないと否定的な意見もありましたが、一人一人に丁寧に説明を行い賛同していただくことができました。その結果、当初は月21件発生していたミスを5件まで削減することができ、お客様からのクレームが減ったとお褒めの言葉を頂きました。 続きを読む
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公開日:2021年10月26日

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富士フイルムの 会社情報

基本データ
会社名 富士フイルム株式会社
フリガナ フジフイルム
設立日 2006年10月
資本金 400億円
従業員数 4,982人
売上高 6752億3700万円
決算月 3月
代表者 後藤禎一
本社所在地 〒106-0031 東京都港区西麻布2丁目26番30号
電話番号 03-3406-2111
URL https://www.fujifilm.com/jp/ja#
採用URL https://careers.fujifilm.com/graduates/
NOKIZAL ID: 1130343

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