【技術革新で未来を拓く】【21卒】キオクシアのプロセス・パッケージ技術開発職の面接の質問がわかる本選考体験記 No.10390（上智大学大学院/男性）（2020/7/22公開）

OpenESテンプレート:学業、ゼミ、研究室などで取り組んだ内容,自己PR,学生時代に最も打ち込んだこと, OpenES企業別質問:技術者として目指したいこと、またその理由、背景、動機について記入してください。

一般的な半導体プロセスの確認を行った後、自分が研究していることについて確実にわかりやすく伝えられるように繰り返し書き直した。

テストセンター受験型の一般的なものであったため、本社の本選考を受ける前に何回も受験をしに行き、ベストスコアを出したと思われるものを提出した。ただし、他企業とは違って、英語があったため、英語のみ受験をしに行った。

テストセンターにて受験
言語、非言語、性格診断/数学、読解/英語
（ESと同時提出、同時期選考である）

半導体、特に製造プロセスについての知識や体験が豊富であることが非常に評価されたと感じています。一次面接の段階で、ぜひ入社してほしいと言われました。

人事の方が不在で、エンジニアの方のみであったため、（少なくとも半導体であれば）技術的なことを情熱的に語ることができれば、通過するのは困難ではないと感じた。

研究内容の概要を教えてください。

次世代通信に対応するために、データバンク内の配線方式を光によるものに変更する試みに取り組んでおり、この技術の実現のために必要な、通信に用いられる半導体デバイスを作製しています。本研究の実用化に向け、半導体デバイスの構造をフォトリソグラフィと呼ばれるプロセスを行うことによって加工し、電流のルートの制御や熱処理に優れた構造を形成する研究をしています。特に私は、半導体自体を結晶成長機械を用いて集積することと、露光や現像、ウェットエッチングといった半導体プロセスの基本となるようなことを行っており、半導体デバイス製造プロセス全般を行っています。目標達成のために、日々プロセスの最適化の向上に励み、よりよい特性を得ることを心がけています。

あなたの研究内容とキオクシアでの仕事の関連性について教えてください。

先ほど申しましたように、私は半導体デバイスの開発の研究を行っており、中でも結晶成長プロセスと前工程のプロセスに力を入れております。前工程プロセスの一番の課題は、エッチング等の精度や制御性が挙げられますが、これは、キオクシア社における、プロセス・パッケージ技術開発やインテグレーションの職と同様のことをしていると考えています。前者はアカデミックなものであり、また開発目的であること、後者はビジネスとしての大量生産を考慮する必要があるという違いはあるものの、基本的な考え方やプロセス技術は同じものでありますため、実際にキオクシア社で働かせていただく場合でも、すぐに対応できると考えています。キオクシア社は日本最大規模のファブを有しているため、そのような場所で実際にプロセスにかかわれることができたら光栄に思います。

一次の面接の際に尋ねられた研究概要についての詳細をより分かりやすく伝えられたことと、研究に対して情熱的に取り組んでいることが伝わり、評価されたと感じます。

落とすための面接ではなく、一次面接で述べることができた自分の研究内容がしっかり言えているか（矛盾がないか）を確かめているような雰囲気の面接であった。

研究内容の詳細を教えてください。

*本面接では事前に作成した研究資料についてのパワーポイントの資料をお見せしながら、面接を行っています。
大学院の研究にて半導体デバイスの製造を行っています。特に課題であったことは、電極を付ける場所に依存して、デバイス全体の抵抗値が上昇してしまうということです。この問題を解決するために、図のような電極配列に変更しました。本手法にて電極を作成した場合、抵抗が高い物質に電流を印加しないような構造となるため、デバイスの高性能化が見込まれますが、本研究室では、このプロセスに挑戦したことがなかったため、実現と最適化には時間を費やしました。他機関の論文を参考にし、レジストや化学薬品等の細かい調整を行うことで、最終的にはデバイスを完成させることができました。この経験を通じて、辛抱強く取り組むことの重要性を改めて実感しました。

弊社はグローバル企業ですが、英語に対して抵抗感はありませんか？

私は、大学入学当初から将来は世界で活躍できるエンジニアになりたいと考えていました。そのため、入学直後から英語学習に励み、特にTOEICについては定期的に受験するように心掛けていました。結果として、大学入学直後には500点程度しかなかったスコアも、大学卒業前には800点を超えるようになり、得意になりました。現在では、研究室に外国人のドクターがいらっしゃるため、会話をする際に英語を話しますし、国際学会への参加経験もありますので、スピーキングに関しても自信があります。引き続き、論文を読むことなどを通じてリーディングの勉強も行っています。従いまして、英語力もあるエンジニアとして、グローバル企業である御社にて活躍できるかと考えています。

面接時、および内定をいただいた際に、他社と悩んでいるため、即断はできないと伝えたため、2か月以上返信を待っていただけました。推薦受験でなければ、特に拘束はないと思います。

先に述べた通り、キオクシア社の強みについて勉強をしておく必要がありますが、一番重要なことは、自分の研究内容について詳しくわかりやすく伝えられることだと思います。特にその研究内容が半導体をはじめとした、キオクシア社に関連することである場合は、そちらに重点を置くべきです。実際、一次の面接30分間のうち20分以上、二次の面接50分のうち40分以上は自分の研究について深堀されました。友人もキオクシア社を受験したのですが、彼は研究内容のみについてしか聞かれなかったそうです。深堀されても対応できるようにしておきましょう。

自分の研究内容をうまく、わかりやすく伝えられるか否だと思います。それによって、意欲的に学習しているかということと、プレゼンテーション能力が測られていると感じました。又、研究の目的についても明確にした方がいいと思います。可能であれば、キオクシア社の事業と関連できるとよいと思います。

最終面接で落ちることは少ないと感じましたが、逆に一次面接でたくさん落とすような印象を受けました。実際、二次面接開始前の集合場所では、人事の方から、一次面接のようにきちんとできれば通過できるというようなことを匂わせる発言がありました。従って、一次面接であるからといって、表面的なことのみを言わないように気を付けましょう。