2021卒の上智大学大学院の先輩がキオクシアプロセス・パッケージ技術開発職の本選考で受けた1次面接の詳細です。1次面接で聞かれた質問と実際の回答や、実施時期、面接時間、面接の雰囲気、評価されたと感じたポイントなどを公開しています。ぜひ、先輩の回答を選考対策に役立ててください。
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2021卒キオクシア株式会社のレポート
公開日:2020年7月22日
選考概要
- 年度
-
- 2021年度
- 結果
-
- 内定辞退
- 職種
-
- プロセス・パッケージ技術開発職
投稿者
- 大学
-
- 上智大学大学院
- インターン
-
- SCREENホールディングス
- 日本ガイシ
- JFEプラントエンジ
- マイクロンメモリジャパン
- 横河ソリューションサービス
- AGC
- アドバンテスト
- 日本テキサス・インスツルメンツ合同会社
- ソニーグループ
- 東京精密
- キーサイト・テクノロジー
- キオクシア
- 内定先
-
- 日本テキサス・インスツルメンツ合同会社
- キオクシア
- 入社予定
-
- 日本テキサス・インスツルメンツ合同会社
選考フロー
1次面接 通過
- 実施時期
- 2020年01月
- 形式
- 学生1 面接官2
- 面接時間
- 30分
- 面接官の肩書
- 5~10年程度の技術系(人事不在)
- 通知方法
- メール
- 通知期間
- 3日以内
評価されたと感じたポイントや、注意したこと
半導体、特に製造プロセスについての知識や体験が豊富であることが非常に評価されたと感じています。一次面接の段階で、ぜひ入社してほしいと言われました。
面接の雰囲気
人事の方が不在で、エンジニアの方のみであったため、(少なくとも半導体であれば)技術的なことを情熱的に語ることができれば、通過するのは困難ではないと感じた。
1次面接で聞かれた質問と回答
研究内容の概要を教えてください。
次世代通信に対応するために、データバンク内の配線方式を光によるものに変更する試みに取り組んでおり、この技術の実現のために必要な、通信に用いられる半導体デバイスを作製しています。本研究の実用化に向け、半導体デバイスの構造をフォトリソグラフィと呼ばれるプロセスを行うことによって加工し、電流のルートの制御や熱処理に優れた構造を形成する研究をしています。特に私は、半導体自体を結晶成長機械を用いて集積することと、露光や現像、ウェットエッチングといった半導体プロセスの基本となるようなことを行っており、半導体デバイス製造プロセス全般を行っています。目標達成のために、日々プロセスの最適化の向上に励み、よりよい特性を得ることを心がけています。
あなたの研究内容とキオクシアでの仕事の関連性について教えてください。
先ほど申しましたように、私は半導体デバイスの開発の研究を行っており、中でも結晶成長プロセスと前工程のプロセスに力を入れております。前工程プロセスの一番の課題は、エッチング等の精度や制御性が挙げられますが、これは、キオクシア社における、プロセス・パッケージ技術開発やインテグレーションの職と同様のことをしていると考えています。前者はアカデミックなものであり、また開発目的であること、後者はビジネスとしての大量生産を考慮する必要があるという違いはあるものの、基本的な考え方やプロセス技術は同じものでありますため、実際にキオクシア社で働かせていただく場合でも、すぐに対応できると考えています。キオクシア社は日本最大規模のファブを有しているため、そのような場所で実際にプロセスにかかわれることができたら光栄に思います。
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キオクシアの 会社情報
会社名 | キオクシア株式会社 |
---|---|
フリガナ | キオクシア |
設立日 | 2017年4月 |
資本金 | 100億円 |
従業員数 | 10,600人 |
売上高 | 9801億3700万円 |
決算月 | 3月 |
代表者 | 早坂伸夫 |
本社所在地 | 〒108-0023 東京都港区芝浦3丁目1番21号 |
URL | https://www.kioxia.com/ja-jp/top.html |
採用URL | https://graduates-jp.kioxia.com/ |
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