22卒 本選考ES
技術職
22卒 | 神戸大学大学院 | 男性
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Q.
志望動機(400字以内)
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A.
志望理由は二点です。一点目は「モノづくりで世界中の人々の生活を支えられる」と考えるからです。私には製品の研究や開発により豊かな生活を支えたいという夢があります。その為、モノづくりにおいて高い技術力を有し、世界をリードする貴社に多大なる魅力を感じています。また、半導体事業は5GやIoTの発展によってますます拡大すると考えられ、半導体メモリ製造を通して社会に貢献することを目標に高い意欲を持って働けると考えます。二点目は「技術者を大切にし、能力を最大限発揮できる環境」であると感じたからです。貴社では様々な専門分野を持つ方が活躍され、それぞれの強みを活かして互いに協力することで世界有数のメモリ製造技術を発揮されています。手厚い研修制度やサポート体制が作る環境に魅力を感じました。影響力の大きい技術力を有する貴社に身を置いて自己を大きく成長させ社会の発展に貢献したいと思い、貴社を志望いたしました。 続きを読む
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Q.
研究概要(400字以内)
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A.
私は〇〇系有機半導体の〇〇構造体に関する研究をしています。現在、有機半導体は身近なデバイスへの応用が期待され、特性解明に関する研究が行われています。〇〇系材料は軽量性・低環境負荷などの優れた利点から注目されていますが、応用に向けて電気特性の向上が必要であると考えられます。私は、電気の流れやすい方向に分子を配列させることで〇〇構造を作製することに着目しました。原子間力顕微鏡を用いて表面でのI-V測定を行うことで、アモルファス状態に比べてキャリア移動度を向上させることができました。また、pn接合を形成した〇〇構造の作製を行い、ダイオード特性を観測することに成功しました。この研究によって、有機半導体〇〇構造の形成やデバイス応用に向けた知見が得られると考えています。 続きを読む
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Q.
問題解決エピソード(400字以内)
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A.
様々な測定手法を組み合わせることで未解明な部分が多い〇〇構造の特性解明に取り組みました。一例として、比較的新しい分析手法である〇〇法に取り組み、〇〇構造内部の分子配向解明を目指しました。〇〇法を適用するには、薄膜の屈折率や赤外線透過率、基板の種類などの一般的な測定にはないパラメータの検討が必要となります。従来の測定では、シリコンやゲルマニウムなどの単結晶上に成膜した有機分子を測定する例がほとんどであり、基板上に金属薄膜がある場合の影響については分かっていないことが多いのが現状です。本研究ではAu薄膜によって分子の配向を制御しているため、最適な膜厚の決定と基板による変化の補正によって、分子配向角の算出を試みました。その結果、〇〇構造の詳細なモデル化につながりました。解析において検討が必要な部分はあるものの、新規測定に取り組むことで新たな知見を得ることができました。 続きを読む
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Q.
自身の強みと弱み(400字以内)
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A.
私の強みは粘り強く集中して物事に取り組むところです。研究室での実験で、初めはコツやポイントが分からず失敗することが多くありました。しかし、装置原理や測定時の注意点について調査し、実験方法の検討を継続したことで徐々に安定した結果が得られるようになりました。そして、測定が難しいとされる〇〇構造の電気特性評価をすることができました。この経験から研究に粘り強く取り組むことができ、様々な測定方法を習得することで研究に貢献できました。このように、結果が出るまで諦めずに取り組むことが強みであると考えます。一方で、弱みは集中しすぎると全体が把握できなくなってしまうことです。その対策として、周囲に意見を求め、優先順位をつけて作業することを意識しています。細部に気を配りつつ成果を出すことも重要ですが、全体を客観的にみて進める事も必要だと考えます。 続きを読む