22卒 本選考ES
技術系総合職
22卒 | 神戸大学大学院 | 男性
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Q.
当社志望理由をご記入ください。(500文字以内)
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A.
私が貴社を志望した理由は主に3つあります。1つ目は、事業領域が広く社会に大きく貢献する仕事ができることです。貴社は国内最大の重工メーカーであり、その開発分野は多岐にわたります。最近では初の国産旅客機MRJや次期戦闘機開発など、日本社会を支え世界を舞台に闘うため自ら先陣を切っていくその使命感や誇りの高さが魅力に感じました。2つ目は、業務の幅が広く、研究開発工程全てに携われることです。貴社は1つの製品の規模が大きいことも魅力であると考えています。それら製品の基礎研究から最終的な製品化、アフターフォローまで関われることは、モノづくりを通して日本を支えたいと考えている私にとってこれ以上ない達成感とやりがいを得られると感じました。3つ目は、技術者として成長できる環境や社風が整っていることです。貴社のインターンシップに参加した際、社員の方々の自身の仕事に対する熱意を感じ、貴社の一員として同じ目標を追いかけたいと強く感じました。日本を支える仕事は決して簡単ではありませんが、素直な姿勢でたくさんの経験を積み、貴社の未来、日本の未来のために活躍できる人材になりたいです。以上の理由から貴社を志望しました。 続きを読む
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Q.
配属予約(マッチング)希望先の中で強く希望する分野があれば、理由とともにご記入ください。(500文字以内)※複数分野記入可
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A.
原子力と研究所を希望します。まず、原子力分野を志望する理由は2つあります。1つ目は、脱炭素社会に貢献できることです。安心安全な原子力発電の実現は10年前の震災を経験した私たち世代の悲願であり、また夢のエネルギー源の実用化という大きな夢を達成したいと考えています。2つ目は、貴社のこれからの成長領域の1つであり、今後注力する分野であることです。その中でも次世代軽水炉や核融合炉は、今は研究開発段階ですが、もし私が入社させていただけたなら、自分自身と共に成長していく分野であることが魅力に感じました。次に、研究所分野を志望する理由も2つあります。1つ目は、約500種類もある貴社の製品全般に関わることができ、貴社を広く支える分野であることです。また様々な分野のスペシャリストが集まるため自分が広く深く成長できるところも魅力に感じました。2つ目は、冬季インターンシップの際、社員の方々の雰囲気が良かったことです。私たちのアイデアについて真剣に考えてくださる姿には仕事に対する熱意を感じ、普段の和気藹々としている雰囲気からは居心地の良さを感じ、自分はこの方達の下で成長し活躍したいという思いを強く抱きました。 続きを読む
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Q.
あなたは自分の性格をどのように自覚していますか。簡潔にご記入ください。 (50文字以内)
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A.
明るくて素直な性格。また、他尊心を持ち自分と他人の意見を両方大切にしながら物事に取り組める性格。 続きを読む
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Q.
他の人と比べて優れている能力や、経験、特性などのうち、入社後の業務に生かせると思われる点について、簡潔に言葉をまとめて自己PRを行ってください。(400文字以内) (記入例 自分は○○部で主将を務めリーダーシップを養ってきた。目標に向かって人をまとめていく能力があるので、入社後もプロジェクトの推進役として力を発揮できると思う。/私は子供の頃から努力家で集中力を持続できるタイプで、卒論でも非常に根気を必要とする試験結果の解析に取り組み成果を出せた。会社の中でも、困難な課題に対して熱意を失わずに取り組めると思う、など)
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A.
私は課題点を素早く分析し、的確に解決する能力があります。この強みを生かし、塾講師のアルバイトリーダーとして生徒数を半年間で7倍以上に増やした経験があります。私が勤務した当初は教室が開講して間も無く、生徒数がたった10名しかいないことが大きな課題点でした。私はこの課題分析に努め、講師が5名しかおらずチラシ配り等の余裕がない点と、講師全員が新人で自分の授業を全うするのが精一杯である点が原因であると考えました。そこで自分が学生時代に通っていた塾の宣伝をヒントに、SNSを設立し生徒の成績向上実績や教室の様子を投稿する解決案を提案、実施しました。この案には課題解決に加え、広範囲の顧客に知ってもらえる付加価値も期待しました。この宣伝効果もあり、半年間で生徒数を75名に増やすことに成功しました。この強みは、入社後複雑で困難な問題が生じた際、その原因を正しく判断し的確に処理する上で必ず活かせると考えています。 続きを読む
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Q.
研究の目的・概要(500文字以内)
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A.
私の研究では、新規の低誘電率材料の開発に取り組んでいます。研究背景には今後5G、6Gといった高周波信号の送受信が本格化していく中で、既存の回路基盤上の配線は伝送損失と呼ばれるエネルギーの損失が大きく、高周波の信号ほど劣化しやすいという問題点がありました。この原因として、特に誘電損失と呼ばれる誘電体内で発生するエネルギー損失が支配的です。そのため近年、今より信号損失の少ない配線基板の材料となり得る新規な低誘電率材料の作製が求められています。そこで本研究は新規な極低誘電率材料の作製を目的として、低誘電率特性で知られるフッ素と中空構造を組み合わせたフッ素ポリマー含有中空粒子の作製を試みました。このフッ素中空粒子を従来の基盤材料であるエポキシ樹脂等にブレンドすることで、既存製品よりも低誘電率な材料として電子基板や配線基盤の更なる高速化、薄型化に応用できると期待されます。また、文献調査の限りではフッ素を含有した中空粒子の報告はなく、本研究が初の作製例であると考えています。さらに中空粒子の作製に従来の手法を用いず、当研究グループが独自に提起している手法を採用した点が本研究の工夫点だと考えています。 続きを読む