2023卒の関西大学大学院の先輩がクボタ総合職の本選考で受けた1次面接の詳細です。自己PRや志望動機をはじめとする1次面接で聞かれた質問と実際の回答や、実施時期、面接時間、面接の雰囲気、評価されたと感じたポイントなどを公開しています。ぜひ、先輩の回答を選考対策に役立ててください。
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2023卒株式会社クボタのレポート
公開日:2023年6月15日
選考概要
- 年度
-
- 2023年度
- 結果
-
- 内定入社
- 職種名
-
- 総合職
投稿者
選考フロー
選考情報
- OB・OG訪問
- 実施していない
- リクルーター
- なし
選考時の新型コロナ感染症対策
先行は最初から最後までオンラインでした。
1次面接 通過
- 実施時期
- 2022年03月 中旬
- 面接タイプ
- オンライン面接
- 実施場所
- オンライン
- 形式
- 学生1 面接官1
- 面接時間
- 30分
- 面接官の肩書
- 不明
- 逆質問
- なし
- 通知方法
- 電話
- 通知期間
- 即日
会場到着から選考終了までの流れ
待機室に入室し、時間になったら担当者の方から電話がきて、面接用のURLに入室。
評価されたと感じたポイントや、注意したこと
元気にハキハキと答えることができたのが良かったと思う。さらに、自分の研究に自信をもちどんな質問でも0.5秒で答える、そんな意識で臨むことが重要であると思う。
面接の雰囲気
面接官の人の口調が温厚で、最初も「緊張していますか?」と聞かれたので、「緊張しています。」と答えたところ、リラックスするように促されました。
面接後のフィードバック
なし
対策の参考にした書籍・WEBサイト
なし
1次面接で聞かれた質問と回答
研究内容を教えてください。
私は、半導体の高性能化を支える大黒柱のひとつである微細配線に関する研究を行なっている。本研究の新規性は二つある。一つ目は配線材料である。現在広く用いられている材料は銅である。しかし、銅はSi基板中に拡散する性質があり、素子動作に悪影響を与える。微細化のさらなる進展によって、その影響はより一層無視できないものとなる。そこで、拡散が小さくかつ低抵抗率の新素材の使用を検討している。二つ目は配線形成の方法である。現在の配線形成で用いられている方法は真空プロセスと呼ばれるものである。真空プロセスは高コストであり、漏電時には火災の恐れがある。しかし、無電解めっきでは従来の真空プロセスに比べ低コストで製造できる。
研究で使用されている新素材の価格が高いように思いますが、その場合コスト増につながらないでしょうか?
確かに、新素材の価格は高く、銅のおよそ10倍となっています。しかし、これまでの配線材料の変遷を見ると、いくつもの材料が検討、導入され、高性能化を求められるたびに置き換わってきた歴史があります。そのため、新素材以外に選択肢がないのが現状です。ですが、現在の電子機器、特にスマートフォンにおいては年々高機能、多機能化しており、価格が上昇してもお客様にはその分の価値を提供できているように思います。さらに、新素材の使用量はごくわずかであり、代替金属の導入によって急激なコストの上昇は起こらないと考えています。
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クボタの 会社情報
| 会社名 | 株式会社クボタ |
|---|---|
| フリガナ | クボタ |
| 設立日 | 1930年12月 |
| 資本金 | 841億3000万円 |
| 従業員数 | 52,152人 |
| 売上高 | 3兆162億8100万円 |
| 決算月 | 12月 |
| 代表者 | 花田 晋吾 |
| 本社所在地 | 〒556-0012 大阪府大阪市浪速区敷津東1丁目2番47号 |
| 平均年齢 | 39.9歳 |
| 平均給与 | 824万円 |
| 電話番号 | 06-6648-2111 |
| URL | https://www.kubota.co.jp/ |
| 採用URL | https://www.kubota.co.jp/recruit/graduate/index.html |
