
24卒 本選考ES
技術コース
-
Q.
あなたが大学を通じて得たものを記入してください。 (150文字以下)
-
A.
大学生活において人との関わりの大切さを学んだ。研究において,一人では研究は進まないため,協力し合える人間関係を築くことを意識した。また,大学生活全般でも授業や進路など多くの人に支えてもらったと実感し,社会人になっても人間関係を大切にしたい。そのため「人」を大切にする貴社の理念に共感し,魅力を感じた。 続きを読む
-
Q.
趣味・特技について記入してください。
-
A.
音楽、旅行、バスケットボール、温泉、読書など 続きを読む
-
Q.
長所について記入してください。
-
A.
周りを巻き込み,新しいことに挑戦できること。 続きを読む
-
Q.
短所について記入してください。
-
A.
心配性であること。 続きを読む
-
Q.
自己PRを記入してください。
-
A.
私は周りを巻き込み,新しいことに挑戦できる強みがある。私がバイトリーダーを務めているデリカテッセンでのアルバイトにおいて,売り上げを伸ばすために季節ごとのイベントを実施した。初めて実施したイベントでは中途半端なイベントになってしまったが,試行錯誤を繰り返し他のアルバイト生にも協力してもらった結果,昨年のクリスマスのイベントでは前年より50万円売り上げを伸ばすことができた。このことから私は周りを巻き込み新しいことに挑戦でき,その目標に対しひたむきに努力することができる。 続きを読む
-
Q.
卒業・修了研究の内容とねらいについて記入してください。(800文字以下)
-
A.
鋼における新たな非破壊検査法及び微小き裂測定法の開発についての研究である。 これまでの金属疲労の研究により近年疲労寿命の予測はある程度可能になってきた。その一方科学技術の発展に伴い過酷な条件下での使用が増加し,一層疲労破壊が生じやすい環境となっており,疲労き裂が原因で生じる事故は絶えない。そのため疲労き裂の高精度測定が課題となっている。き裂の測定法としては様々な測定法が存在するが,き裂伝ぱの大半を占めるき裂の開閉口挙動については有効な測定方法が存在しないのが現状であり,新たなき裂開閉口挙動の測定法が求められている。そこで磁場変化を用いたき裂の測定法に着目した。この方法では従来の方法に比べ装置が安価かつ簡便,また非接触で微小疲労き裂の開閉口挙動や進展挙動の動的測定,高精度測定を行うことが可能であり,き裂の早期発見,検査の簡便性など多くの利点があるといえる。 炭素鋼などの強磁性体は,外部磁場を与えることで磁歪と呼ばれるひずみが発生する「磁歪効果」と呼ばれる磁気的特性を持つ。反対に強磁性体にひずみを加えた際に外部へ磁場が発生する「逆磁歪効果」を用い,試験部にき裂が生じた際の微小疲労き裂の情報を測定している。 私の研究では特に微小疲労き裂の開口応力,き裂位置とき裂長さについての測定を目的としている。そこで試験片周辺の3次元的な磁場出力に着目した。実験では熱処理を施した試験材(S25C)の形状を平板に加工し、試験片に周波数1~20Hzの三角波で応力負荷を与え,その際の磁場出力を応力に垂直な方向,平行な方向についてそれぞれコイルとホールセンサを用いて逆磁歪によって生じた磁場出力を測定し,出力値を比較することで試験片周囲に発生する誘導磁場について3次元的に関係性を示し,測定結果からき裂が生じた際のき裂進展の挙動やき裂位置について推定することを目的としている。 続きを読む
-
Q.
卒業・修了研究の進捗状況(研究の進み具合など)記入してください。 (700文字以下)
-
A.
これまでの研究では,逆磁歪効果を用いた磁場出力からき裂開口応力が取得可能であると分かった。き裂を加えた試験片とき裂のない試験片について引張圧縮応力をかけ,その磁場出力を測定した際の応力-磁場出力についてのグラフを比較したところ,き裂を加えた試験片のグラフには屈曲点が生じる。屈曲点においてき裂が開口していると考えられるため,開口応力の予測ができることが分かったが,き裂長さについては塑性域の発生や応力の再分布の影響で直接の測定は困難であり実験方法を見直している。 この研究における目標は試験片に生じる磁場を3次元的に測定し,測定結果からき裂位置を推定することである。そのために卒業研究では試験片に平行,垂直な方向の磁場出力を測定し,出力値を比較した。その際試験片に垂直な方向の磁場出力は平行な方向と比べ反転し,出力値も小さくなると予測していたが結果は違っていた。これはコイルによって誘導磁場を測定する際,応力に垂直な方向の磁場出力の測定結果において応力に平行,垂直な方向の磁場出力が重畳したグラフが得られてしまったためであると推測している。この結果が生じた要因として磁気異方性の影響があり、磁化容易方向である応力に平行な方向の磁場出力が大きく検出されたことが考えられる。 この研究結果を踏まえ,実際には試験片周辺にはどのように磁場が発生しているかを調べるため,応力負荷時における試験片形状と試験部周囲に発生する磁場を解析と実験によって比較するとともに試験部にき裂を加えた際の結果と比較することで,き裂の発生箇所や進展挙動について3次元的に調べることを目標として研究を進めている。 続きを読む
-
Q.
第一希望プロダクトを選択された理由を記入してください。 (200文字以下)
-
A.
CEATEC2022の空中ディスプレイの技術紹介がきっかけでディスプレイに関心を持った。ディスプレイはIOTやADASの普及に伴い今後需要が高くなると予想される。また広い事業分野を持つディスプレイでは必要な知識も多く,その分自身の成長に繋がると考えている。学業や研究活動を通して得た経験と,自身の持つチャレンジ精神やひたむきに努力できる強みを活かして製品開発の分野で貢献したいと考えている。 続きを読む
-
Q.
第二希望プロダクトを選択した理由を記入してください。 (200文字以下)
-
A.
貴社のイベントや懇談会を通して,世界シェアが1位であることや3つの印刷方式を扱う唯一の企業であるということに他社に負けない強みを感じた。また,デジタル化の推進やそれに伴う市場拡大などの課題があり,海外との関わりも多いことから自身の成長が見込める環境であると感じた。印刷のデジタル化というやりがいのある業務に対して自身のチャレンジ精神を活かして貢献したいと考えている。 続きを読む