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【次世代半導体の未来を拓く】【21卒】 日立製作所 インターンシップ(事務系/技術系)の通過ES(エントリーシート) No.31731(筑波大学大学院/男性)(2020/6/8公開)

株式会社日立製作所のインターンにおける、エントリーシートで出題された設問とそれに対する先輩の実際の回答を公開しています。ぜひ、卒年やコースによる設問の違いや傾向を確認して、先輩の回答を選考対策に役立ててください。

※ 本ページに表示されるタイトルおよびHTML上のメタ情報には、生成AIが作成した文章が含まれます。

※ 参考になったボタンは、1度押すと変更できません。

公開日:2020年6月8日

21卒 インターンES

インターンシップ(事務系/技術系)
21卒 | 筑波大学大学院 | 男性

Q.
「所属研究室・ゼミ」で「はい」を選択した方は現在の研究内容を入力してください。

A.
半導体材料である遷移金属ダイカルコゲナイド(TMD)の電子状態を、走査型トンネル顕微鏡(STM)や走査型トンネル分光法(STS)を用いて観測し、TMDの半導体としての性質を解明しています。Siに代わる次世代半導体材料の中で、TMDは単層で半導体の性質を示し、微細化が可能であることや、強い発光や光吸収を持つこと、高い移動度であることなど、優れた性質を持っています。様々なTMDを組み合わせることで、バンドエンジニアリングが可能であり、優れた性能を持つデバイスの開発が期待されています。薄膜太陽電池や、電界効果トランジスタなど、様々なTMD半導体を利用したデバイスの開発も行われています。私は、TMDの中でも、モリブデン(Mo)やタングステン(W)、硫黄(S)やセレン(Se)を組み合わせたTMDについて研究しています。 学士4年次は、有機化学気相成長法(MOCVD法)によって成長した、MoS2/WS2の面内ダブルヘテロ接合の界面の電子状態の観測やバンド構造の評価をしました。界面のヘテロ接合の様子をSTMを用いて評価し、バンド構造をSTSを用いて計測しました。MOCVD法によるTMDの成長過程で適切な条件の下試料作成を行わなかった場合、界面が合金化してしまい、バンド構造が理論的な値にならないということがわかりました。本来MoS2/WS2のヘテロ接合では、バンド構造はType-Ⅱとなるのですが、界面が合金化している場合、バンド構造がType-Ⅰとなることがわかりました。また、MOCVD 法の各成長プロセスにおける TMDの成長時間をコントロールすることで、自在にTMDsのバンドタイプを制御しうる可能性について考察しました。 現在は、MoSe2リボンについての研究をしています。MoSe2は正三角形の構造をしているのですが、これらが一つずつ反転して成長することで全体の構造が帯のような形になり、このようなTMDを一般にリボンと呼びます。私は、このようなTMDリボンのエッジに注目し、性質の解明をしています。始めにMoSe2リボンのエッジがSe原子になっているのか、もしくはMo原子になっているのかをSTMを用いて観測しました。STMで原子の配列を観測するためには、STMの分解能を原子の大きさレベルまで上げなければなりません。私は高真空(10^-8Pa)低温(80K)下で測定を行うことや、STMで使用する探針を電解研磨で尖らせることでSTMの分解能を原子レベルまで上げ、原子像の観察を行いました。また、エッジを構成する原子が異なることで、バンド構造がどのように変化するのかをSTSで観測しています。 続きを読む

Q.
自分のセールスポイントを教えてください。

A.
私には組織内で生じた問題を自ら行動し、解決に導く行動力があります。私は〇〇サークルの会長を1年間務め、サークル内で生じた、「初心者がサークルをやめてしまう」という問題を解決しました。週に1回初心者講習会を開き、コートにきた初心者の子と積極的に話しかけることで、150人規模のサークルを作ることができました。また、周囲を巻き込んで行動する力もこの経験から身に付けることができました。 続きを読む

Q.
テーマを志望する理由を教えてください。

A.
私が貴社の「ITソリューションエンジニア体験型インターンシップ」を選んだ理由は、日本トップクラスの事業を展開している貴社のビジネスの肝を知ることで、私自身の就職に対する考えを明確にし、今後の就職活動に生かしたいと考えたからです。私は現在、ITコンサルタントと研究職の双方を志望しています。その理由は、新しいことに挑戦することや、社会や組織の問題や課題に対して自ら考え行動し、解決することに興味を持っている一方で、大学生活や研究室での生活で学んだ専門分野の知識を活かした仕事をしたいとも考えているからです。今日の社会は複雑化が進み、IoT等の最先端技術によって物とインターネットと人が密接に関わっています。その中で、社会の問題を解決していくためには、最先端な知見が必要であると感じています。今回の貴社のインターンで、世界の最先端の技術や情報を学び、貴社の社員の方々やたくさんの学生の方々と交流をすることで、私自身の視野を広げ、複雑化した社会に乗り遅れない力を身に付けたいと考えています。また、幅広い知識を得て、物事を多角的に捉えることのできる人になり、新しい分野に挑戦し続けたいと考えています。 続きを読む
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夏インターンシップ
26卒 | 非公開 | 男性
通過

Q.
下記1~3のうち、いずれかが伝わるエピソードに沿って、自由に自己PRしてください。  1.夢に向かって果敢にチャレンジし続けられる  2.素直な心、ひたむきさを持っている  3.グローバルな視点を持っている ※理系の方は、研究以外でご記入ください。

A.
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公開日:2025年3月3日

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日立製作所の 会社情報

基本データ
会社名 株式会社日立製作所
フリガナ ヒタチセイサクショ
設立日 1949年5月
資本金 4634億1700万円
従業員数 281,696人
売上高 9兆7287億1600万円
決算月 3月
代表者 東原 敏昭
本社所在地 〒100-0005 東京都千代田区丸の内1丁目6番6号
平均年齢 42.9歳
平均給与 935万円
電話番号 03-3258-1111
URL https://www.hitachi.co.jp/recruit/newgraduate/index.html
採用URL https://www.hitachi.co.jp/recruit/newgraduate/
NOKIZAL ID: 1130244

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