キオクシアシステムズの本選考ES(エントリーシート)一覧(全7件)
キオクシアシステムズ株式会社の本選考における、エントリーシートで出題された設問とそれに対する先輩の実際の回答を公開しています。卒年や職種による設問の違いや傾向をつかむために、詳細ページにて全文を確認し、選考対策に役立ててください。
キオクシアシステムズの 本選考の通過エントリーシート
全7件中7件表示
20卒 本選考ES
総合職 技術系
20卒 | 大阪大学 | 男性
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Q.
ありたい姿/技術者として成し遂げたいことを記入して下さい
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A.
私は技術者として成し遂げたい事、ありたい姿として二つの事があります。 まず一つ目が、技術を通じて、人々の身近なところで役に立ちたいという事です。 ここには過去の経験が背景としてあります。私がアルバイトでご高齢の方から事故受付をした際に、「運転が怖いけれど、車が無ければ生きていけない」「自動運転が早く出来るようになれば良いのに」等という声を何度も聞いてきました。もし自動運転の機能があれば事故は起きず、お客様が悲しい思いをする必要は無かったわけです。こういった経験から、技術を通じて、私たちの身近なところで活躍したいと考えています。 そして二つ目が、時代の流れに臨機応変に対応して、モノづくりをするという事です。 例えば携帯電話は、「ガラケー」から「スマートフォン」に、「パスワード入力」から「指紋認証」へと時代とともに進化しています。私自身、スマートフォンでPCサイトが見れたり、指紋だけでロックを解除出来たりと非常に便利になったと感じます。こういった人々のニーズに応え、より豊かな暮らしが出来るようなモノづくりをしたいと考えています。 特に貴社であればこの二つを実現出来ると考えています。貴社ではNAND型フラッシュメモリをはじめ、自動車向けの半導体にも力を入れ、時代の流れに合ったモノ作りをしています。私は貴社で技術者として活躍し、人々の身近なところで貢献をしたいと考えています。 続きを読む
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Q.
配属希望先を教えてください。
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A.
パッケージ部門 続きを読む
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Q.
推薦を希望されますか?
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A.
様々な企業を受けた上で検討したいので、自由応募での選考を希望します。 続きを読む
20卒 本選考ES
総合職
20卒 | 九州大学 | 男性
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Q.
ありたい姿・技術者として成し遂げたいこと
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A.
私は技術者としての自らの仕事を通して、未来の社会に暮らす人々の生活を楽しくて豊かなものにしたいという強い思いがあります。近年は仮想空間と現実空間を高度に融合させることで人間の経済発展と社会的課題の解決を目指すSociety5.0と呼ばれる社会に向けた取り組みが活性化しています。私はそうした未来を実現するために最も重要な技術の一つが、センシング技術であると考えています。また、そのセンシング技術を用いて自動車の自動運転技術や、産業の自動化に伴うAI技術を導入して社会を発展させていくためには、瞬時に莫大なデータを管理でき、尚且つ信頼性の高いデバイスが必要になります。そのデバイスとして最も重要になるもの一つが、御社が世界に先駆けて開発を手掛けた小型大容量メモリです。御社は世界に先駆けてメモリの集積化や積層化に取り組むことで電子機器の進化や情報社会の進展に貢献しており、私が実現したい未来を支えるモノづくりができる理想の環境であると考えました。私はそんな御社で、今後必ず到来する一歩先の情報化社会に必要不可欠になるような、高密度化・大容量化を実現したフラッシュメモリを開発したいと考えています。また、そのような世の中の人々がより豊かなで楽しく暮らせる社会を実現することを可能にさせるような研究開発を行いながら、自らもグローバルに通用するエンジニアに成長したいと考えています。 続きを読む
19卒 本選考ES
エンジニア
19卒 | 大阪大学大学院 | 男性
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Q.
ありたい姿/技術者として成し遂げたいことを記入して下さい(1〜600字)
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A.
私は周囲と協力をしながら、困難にぶつかっても試行錯誤して多角的に解決法を見つけられる技術者になりたいです。私は大学院での研究にて微小粒子の光学特性を調べるというテーマで研究を行なっています。世の中には光と物の相互作用により存在する様々な現象があります。それを使用している製品の一つに光共振器があります。光共振器とはレーザーの主原理です。これは光を内部に閉じ込め、共鳴という物理現象を用いて光のエネルギーを増幅させレーザーを作り出します。しかし従来レーザーに使用されてきた光共振器には性能の限界があり、これを向上させる為には新しい光共振器が必要とされています。そこで私は直径1〜2μmサイズの微小な球(マイクロスフィア)に注目し、これの作製を行なっています。このマイクロスフィアは内部に光を閉じ込める面白い性質が知られており、これにより新しい光共振器となることが期待されています。私の実験ではこのマイクロスフィアの作製率を安定させることが課題であり、一人では知識もなく上手く実験もできない場面が多々ありました。そこで研究室のメンバーや指導教官と密に議論をすることの大切さを学びました。また同じ実験を単純作業のようにこなすのではなく、自分で試行錯誤を繰り返すことで現状打開を試みています。この経験から貴社では常に周囲との連携する姿勢を大切にし、現状を分析して何度も試行錯誤できる技術者でありたいです。 続きを読む
18卒 本選考ES
技術系
18卒 | 東京都市大学大学院 | 男性
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Q.
研究内容
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A.
パソコンや携帯電話において重要な半導体産業は、集積回路の素子サイズを微細化することで、高性能化を成し遂げてきました。しかし近年、加工技術の限界やリーク電流の増加などの問題から、微細化による性能向上に限界が来ています。そこで新たな性能向上手法として、材料に従来のシリコンと比べて移動度つまり電流の流れる速度が速く、高速駆動が期待されているゲルマニウムを使用したデバイスや、材料の性質を変化させる「歪み」を導入したデバイスの開発が進められています。ゲルマニウムはシリコンと同族元素であるため、従来のシリコンと同じ技術を使うことができます。特に電子の移動によって電流を流すn型ゲルマニウムMOS構造を作製するには、ゲルマニウムと金属の間に障壁を作り電流が流れなくなる、フェルミレベルピニングというものが問題となっています。そこで私は電極と接するソースドレインにシリコンゲルマニウムを用いてシリコンゲルマニウムと金属の間のフェルミレベルピニングの影響について現在研究を進めています。最終的な目標はフェルミレベルピニングによる電流が流れないショットキー接触を解決し、さらにソースドレインにシリコンゲルマニウムを用いることで電流の流れるチャネル部分のゲルマニウムに歪みを加えることでさらなる移動度の向上を実現することを目標として現在ゲルマニウム上へのシリコンゲルマニウム膜の成長条件の最適化を結晶性、平坦性、歪みの評価と電流電圧特性の測定を通して研究を進めています。 続きを読む
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Q.
志望動機
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A.
メモリの開発設計に携わりたいと考えています。私は貴社の世界初を数多く出している技術力の高さに惹かれ志望しました。こういった世界初を開発できるということはその世界初を創造する独創的な考えやそれを具現化することのできる高い技術力があるからだと思います。 私も常に考えの目線を上に向け, 向上心を持って物事に取り組みたいと考えております。特に, 今回志望しております部門の内容でもありますNAND型メモリは各種メモリ, SSD, 産業機器など多くの製品に利用されておりますように, 世界基準のデバイスとなっております。私は便利な世の中を作りたいと考えており、そのためにはビックデータ化に向けたより高速化、より大容量化がIoT時代に求められてくると感じてます。その私の考えのもと、貴社には世の中のニーズに応える高度な技術力があり、私は研究活動で培ってきた半導体の知識と課題を分析する力を活かし、貴社で多くのことを学び技術力を身に着けることでニーズに応え、ニーズを超える製品を生み出していくことで便利な世の中を実現していきたいと考えています。 続きを読む
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キオクシアシステムズの 会社情報
会社名 | キオクシアシステムズ株式会社 |
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フリガナ | キオクシアシステムズ |
設立日 | 1996年4月 |
資本金 | 1億円 |
従業員数 | 573人 |
決算月 | 3月 |
代表者 | 今宮賢一 |
本社所在地 | 〒247-0006 神奈川県横浜市栄区笠間2丁目5-1STEビル |
電話番号 | 045-890-2750 |
URL | https://www.kioxia-systems.co.jp/index.html |
NOKIZAL ID: 1610806
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